СЕНСОРИ НА ОСНОВІ ПОЛІКРИСТАЛІЧНОГО 3С-SiC: ВПЛИВ ЛЕГУВАННЯ БОРОМ

Автор(и)

  • Володимир Родіонов Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського», Україна https://orcid.org/0000-0001-6300-4840
  • Тетяна Братусь Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського», Україна
  • Альгімантас Бубулiс Каунаський технологіческий університет, Інститут мехатроніки, Каунас, Литва

DOI:

https://doi.org/10.20535/1970.65(1).2023.283310

Ключові слова:

полікристалічний карбід кремнію, домішка бору, енергія активації, фотосенсор, термосенсор, термоанемометр

Анотація

Як хімічно інертний широкозонний напівпровідниковий матеріал з високими твердістю і теплопровідністю, стабільними електричними характеристиками, карбід кремнію SiC є привабливим для застосування в електроніці та сенсорах, що працюють за складних умов. Останні передбачають екстремальні значення температури, тиску, ударні навантаження, радіаційний та хімічний впливи, що виникають в авіаційних і автомобільних двигунах, промислових газових турбінах, при розвідці нафти і газу тощо. Більш низькі температури вирощування полікристалічного кубічного карбіду кремнію, рс-3С-SiC, порівняно з монокристалічним, дозволяють значно знизити його вартість та розширити можливості застосування. З попередніх робіт випливає, що термочутливість рс-3С-SiC можна суттєво підвищити за допомогою легування акцепторною домішкою бору в процесі вирощування матеріалу. Метою даної роботи є визначення властивостей легованого бором pс-3C-SiC для створення фотосенсорів і термосенсорів, а також термоанемометрів для екстремальних умов експлуатації.

Показано, що легування pс-3C-SiC домішкою бору в процесі вирощування сприяє утворенню в забороненій зоні центрів акцепторного типу та появі особливостей у спектрі фоточутливості, що може мати практичний інтерес для фотовольтаїки. Для температур Т > 150 K провідність легованого зразка практично експоненціально збільшується з енергією активації 0,28 еВ, близькою до енергії активації фотопровідності того ж зразка. Це свідчить про те, що процес іонізації рівноважних та нерівноважних носіїв заряду відбувається з одних і тих самих домішкових центрів. Легування бором викликає появу широкої смуги фотопровідності з максимумом при 1,7 еВ в області домішкового поглинання рс-3C-SiC, подібно ситуації в монокристалічному 3C-SiC. Визначено, що температурний коефіцієнт опору для легованого бором рс-3C-SiC дорівнює 3,0×10-2 град-1 при Т = 300 K і 1,1×10-2 град-1 при Т = 700 K, що майже на порядок більше ніж у термопар, а також металів, з яких виготовляють нитки анемометрів.

Обговорення отриманих результатів дозволяє пов’язати величину енергії активації Е=0,28 еВ з рівнем мілкого бору в рс-3C-SiC та припускати природу цього центру у вигляді точкового дефекту, що містить атом бору, який заміщує в решітці 3C-SiC атом кремнію, тобто BSi.

Запропоновано фотосенсори, які в ближньому ІЧ-діапазоні 0,6 ¸ 1,8 мкм можна використовувати в якості сонячних елементів, а у видимій області 0,4 – 0,6 мкм спектру, - як фотоелементи.

Здатність рс-3C-SiC працювати за екстремальних умов експлуатації, а також невисока відносно інших політипів SiC вартість технології виробництва приладів на його основі, дозволяють вважати його придатним матеріалом для створення сенсорів температури, термоанемометрів і фотосенсорів, а також детекторів для моніторингу ядерних об’єктів.

Біографії авторів

Володимир Родіонов , Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»

Канд. фіз.мат.наук ,

Ст.наук. співроб.,  фіз.-мат. факультет, кафедра загальной  фізики і моделювання фізичних процесів 

Тетяна Братусь, Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»

Канд. фіз.мат.наук, 

Доцент, фіз.мат. факультет, кафедра загальной фізики  

Альгімантас Бубулiс, Каунаський технологіческий університет, Інститут мехатроніки, Каунас

Доктор наук, Професор

 

Посилання

W. J. Choyke, H. Matsunami, G. Pensl, (eds), Silicon Carbide – Recent Major Advances, Springer, 2004.

P. Friedrichs, T. Kimoto, L. Ley, G. Pensl, (eds), Silicon Carbide, Vol. 1: Growth, Defects, and Novel Applications, Vol. 2: Power Devices and Sensors, Wiley-VCH Verlag GmbH, Weinheim, 2010.

N. G. Wright, A. B. Horsfall, "SiC sensors: A review", J. Phys. D: Appl. Phys., vol. 40, is. 20, pp. 6345-6354, Oct 2007. DOI:10.1088/0022-3727/40/20/S17.

A. A. Lebedev, A. M. Ivanov, N. B. Strokan, “Radiation resistance of SiC and hard radiation detectors based on it”, Semiconductors, vol. 38, is. 2, pp. 125-147, Feb 2004.

R. Campbell, “Silicon Carbide Junction Thermistor” in Conf. Silicon Carbide –1973, Ed. Marshall, I. Faust, C. Ryan. Univ. of South Carolina Press, 1973, pp. 611-617.

Man I Lei, “Silicon carbide high temperature thermoelectric flow sensor”, Ph.D. thesis. Dept of mater. sci. and engine., Case Western Reserve Univ., Cleveland, OH, 2011.

V. S. Ballandovich, S. V. Bogachev, V. A. Il’yn, A. V. Korlyakov, B. S. Kostromin, V. V. Luchinin, A. A. Petrov, “Realization of silicon carbide sensors for measurements on gaseous working fluids”, Materials Science аnd Engineering, vol. B46, is. 1-3, pp. 383-386, Apr 1997.

V.N. Rodionov, L.M. Ivanova, A.A. Pletiushkyn. Vlyianye prymesy bora na fotoэlektrycheskye svoistva polykrystallycheskoho karbyda kremnyia kubycheskoi modyfykatsyy. V sb. Lehyrovannye poluprovodnykovye materyaly. M. - Yzd. AN. SSSR "Nauka", pp. 25 - 27, 1985 (In Russian).

V. Rodionov, V. Bratus’, S. Voronov, “Influence of Boron Doping on the Photosensitivity of Cubic Silicon Carbide”, Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics, vol. 22, is. 1, pp. 92–97, Jan 2019. DOI:10.15407/spqeo22.01.92.

M. Syväjärvi, Q. Ma., V. Jokubavicius et al., “Cubic silicon carbide as a potential photovoltaic material”, Solar Enegy Material & Solar Cell, vol.145, iss. 2, pp. 104-108, Feb 2016. DOI: 10.1016/j.solmat.2015.08.029.

L. Ivanova, P. Aleksandrov and K. Demakov, “Termoelectrical properties of vapor grown polycristalline cubic SiC”, Inorg. Mater., vol. 42, no. 11, pp. 1205 – 1209, Nov 2006. DOI: 10.1134/S0020168506110069.

S. N. Gorin and L. M. Ivanova, “Cubic Silicon Carbide (3C-SiC): Structure and Properties of Single Crystals Grown by Thermal Decomposition of Methyl Trichlorosilane in Hydrogen”, Phys. Stat. Sol. (b), vol. 202, is. 1, pp. 221-245, Jul 1997. DOI:10.1002/1521-3951(199707)202:1%3C221::AID-PSSB221%3E3.0.CO;2-L.

P.Y. Savostenko, S.P. Serbyna, "Termoanenometrychtskyi kompleks dlia yzmerenyia temperatury y skorosty v turbulentnykh hasovykh potokakh", TAYK-ZM. RTE, no 5- 6, pp.185 -187, 1989. (In Russian).

A. Bubulis, S.A. Voronov, A.M. Henkyn, T.Y. Bratus, V.N. Rodyonov, "Termoanemometryia na osnove polykrystallycheskoho karbyda kremnyia kubycheskoi modyfykatsyy", Bull. Kyiv Polytech. Inst. Ser. Instrum. Mak., is. 52 (2), pp. 42-47, 2016 DOI: 10.20535/1970.52(2).2016.92763. (In Russian).

W. Suttrop, G. Pensl, P. Lanig, “Boron-Related Deep Centers in 6H-SiC”, Appl. Phys., vol. A51, pp. 231-237, Sep 1990. DOI:10.1007/BF00324007.

A. A. Lebedev, “Deep level centers in silicon carbide: A review”, Semiconductors, vol. 33, pp. 107-130, Feb 1999. DOI: 10.1134/1.1187657.

Yu. A. Vodakov, N. Zhumaev, B. P. Zverev, G. A. Lomakina, E. N. Mokhov, V. G. Oding, V. V. Semenov, Yu. F. Simakhin, “Silicon carbide doped with boron”, Sov. Phys. Semicond., vol. 11, is. 2, p. 214, Feb 1977.

P. G. Baranov, E. N. Mokhov, “Electron paramagnetic resonance of deep boron in silicon carbide”, Semicond. Sci. Technol., vol. 11, is. 4, pp. 489-494, May 1996. DOI: 10.1088/0268-1242/11/4/005.

N. P. Baran, V. Ya. Bratus’, A. A. Bugai, V. S. Vikhnin, A. A. Klimov, V. M. Maksimenko, T. L. Petrenko, V. V. Romanenko, “Electron spin resonance of boron in cubic SiC: manifestation of the Jahn-Teller effect”, Phys. Sol. State, vol. 35, is. 11, pp. 1544-1548, Nov 1993.

H. Kuwabara, S. Yamada, “Free-to-bound transition in b-SiC doped with boron”, Phys. Stat. Sol. (a), vol. 30, is. pp. 739-746, 1975.

T. T. Petrenko, T. L. Petrenko, “Density functional theory study of the shallow boron impurity in 3C-SiC and comparison with experimental data”, Phys. Rev. B, vol. 93, is. 16, p. 165203, Apr 2016. DOI: 10.1103/PhysRevB.93.165203.

A. van Duijn-Arnold, T. Ikoma, O. G. Poluektov, P. G. Baranov, E. N. Mokhov, J. Schmidt, “Electronic structure of the deep boron acceptor in boron-doped 6H-SiC”, Phys. Rev. B, vol. 57, is. 3, pp. 1607-1619, Jan 1998. DOI: 10.1103/PhysRevB.57.1607.

##submission.downloads##

Опубліковано

2023-06-30

Як цитувати

[1]
В. . Родіонов, Т. . Братусь, і Бубулiс А. ., «СЕНСОРИ НА ОСНОВІ ПОЛІКРИСТАЛІЧНОГО 3С-SiC: ВПЛИВ ЛЕГУВАННЯ БОРОМ», Bull. Kyiv Polytech. Inst. Ser. Instrum. Mak., вип. 65(1), с. 42–46, Чер 2023.

Номер

Розділ

АНАЛІТИЧНЕ ТА ЕКОЛОГІЧНЕ ПРИЛАДОБУДУВАННЯ