ВПЛИВ НІТРАТНИХ ЕЛЕКТРОЛІТІВ У РІДИННІЙ КОМІРЦІ АТОМНО-СИЛОВОЇ МІКРОСКОПІЇ НА ТОЧНІСТЬ ВИМІРЮВАННЯ МІКРОРЕЛЬЄФУ МІКРОЕЛЕКТРОННИХ КОМПОНЕНТІВ
DOI:
https://doi.org/10.20535/1970.70(2).2025.347953Ключові слова:
іонна сила, подвійний електричний шар, в’язке демпфування, локальний електрохімічний процес, метрологічна відтворюваністьАнотація
У практиці сканувальної мікроскопії все частіше необхідно проводити вимірювання нанорельєфу металізованих зразків у рідких середовищах, де вибір провідного розчину для комірки напряму впливає на стабільність зворотного зв’язку, рівень шуму та коректність реконструкції висот. При цьому відомо, що в рідинах, точність вимірювання методом атомно-силової мікроскопії (АСМ) визначається балансом між товщиною подвійного електричного шару, гідродинамічним демпфуванням кантилевера та можливими локальними електрохімічними процесами. Проте, вплив саме нітратних сольових розчинів на метрологію вимірювань металевих плівок на оптичному склі описано фрагментарно. В роботі проводиться кількісна оцінка впливу концентрації нітратних електролітів у рідинній комірці АСМ на відтворюваність та коректність вимірювань мікрорельєфу досліджуваних поверхонь. Запропоновані практичні рекомендації щодо вибору середовища, режимів сканування та калібрування. Серії експериментів із розчинами KNO₃/NaNO₃ показали, що підвищення іонної сили зменшує товщину подвійного шару та стабілізує контакт зонда, але одночасно посилює в’язке демпфування і спектральну щільність шуму, що погіршує відтворення дрібних просторових деталей. Оптимальним виявився інтервал невисоких концентрацій, у якому досягається найкращий компроміс між стабільністю зворотного зв’язку та мінімальною похибкою реконструкції профілю поверхні. Показано, що вихід за межі цих концентрацій призводить до зростання невизначеності вимірювань через гідродинамічні та електрохімічні артефакти. Показано, що електронно-променева модифікація металевих плівок знижує кількість нанодефектів і забезпечує сталість оцінок шорсткості в часі навіть за механічних збурень, тоді як немодифіковані зразки демонструють суттєве погіршення метрологічних показників. Отже доведено, що концентрація нітратного електроліту є критичним параметром точності АСМ у рідині. Рекомендовано проводити дослідження з використанням АСМ в області малої іонної сили, стабілізувати температуру й силу натиску, застосовувавши еталони висоти та корекцію за провідністю розчину. Зроблено висновок, що поверхнева електронно-променева модифікація зразків підвищує відтворюваність і достовірність оцінок мікрорельєфу, що важливо для контролю якості мікроелектронних компонентів.
Посилання
A. Beena Unni, R. Winkler, D. M. Duarte, K. Chat, & K. Adrjanowicz, “Influence of Surface Roughness on the Dynamics and Crystallization of Vapor-Deposited Thin Films”, The Journal of Physical Chemistry B 126 (40): 8072-8079, 2022. DOI: 10.1021/acs.jpcb.2c04541.
F. M. Mwema, T.-C. Jen, & L. Zhu, Thin Film Coatings: Properties, Deposition, and Applications (1st ed.). CRC Press: Boca Raton, FL, USA, 2022. DOI: 10.1201/9781003202615.
F. Zhao, H. Tang, X. Zou, & X. Li, “A Review of Optical Metrology Techniques for Advanced Manufacturing Applications”, Micromachines, vol. 16, no. 11, 1224, 2025. DOI:10.3390/mi16111224.
S. Chatterjee, & R. Bhardwaj, “A short review on optical interferometry techniques for characterization of a thin liquid film on a solid surface”, Sādhanā, 48, 30, 2023. DOI:10.1007/s12046-023-02091-6.
C. Yang, C.Q. Dang, W.L. Zhu,& et al. “Highspeed atomic force microscopy in ultra-precision surface machining and measurement: challenges, solutions and opportunities”, Surf. Sci. Tech. 1, 7, 2023. DOI: 10.1007/s44251-023-00006-5.
T. Gotszalk, A. Marendziak, K. Kolanek, & et al. “Scanning probe microscopy as a metrology method in micro-and nanostructure investigations”, Bulletin of the Polish Academy of Sciences Technical Sciences, vol. 54, no.1, pp. 19-23, 2006. https://www.researchgate.net/publication/228881923.
X. Chen, B. Li, Z. Liao, J. Li, X. Li, J. Yin, & W. Guo, “Principles and Applications of Liquid‐Environment Atomic Force Microscopy”, Advanced Materials Interfaces, vol. 9, no. 35, 2201864, 2022. DOI: 10.1002/admi.202201864.
X. Hanqing, Y. Chuntang, C. L. Jie, & et al., “Effect of the high-current pulsed electron beam irradiation on microstructure evolution and high temperature performance of arc ion plated Ni-20Co-28Cr-10Al-0.5Y coating at 1373 K”, Surfaces and Interfaces, 62: 106149, 2025. DOI: 10.1016/j.surfin.2025.106149.
A. Deolia, A. Raman, & R. Wagner, “Low frequency photothermal excitation of AFM microcantilevers”, J. Appl. Phys., vol. 133, no. 21, 214502, 2023. DOI: 10.1063/5.0147341.
Da Wu, & et al. “Probing structural superlubricity of two-dimensional water transport with atomic resolution”, Science, vol. 384, is. 6701, pp. 1254-1259, 2024. DOI: 10.1126/science.ado1544.
V.Kvasnikov, M.Kataeva, T. Yu. Shkvarnytska, "Development of a calibration method for a scanning probe microscope," Measuring and Computing Devices in Technological Processes, is. 2, pp. 74–80, Dec. 2021. https://doi.org/10.31891/2219-9365-2021-68-2-9.
H. Pancheva, O. Khrystych, E. Mykhailova, M. Ivashchenko, & A. Pilipenko, “Chemical deposition of CDS films from ammoniac-thiourea solutions”, Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, vol. 2, no. 6(92), pp. 48–52, Apr. 2018. DOI: 10.15587/1729-4061.2018.128093..
H.V. Kanashevych, D.I. Kotelnikov, V.A. Vashchenko. Spetsialni metody obrobky optychnoho skla (Special methods of optical glass processing), : Chernihiv, Ukraina: Siverska dumka, 2002.
M.O. Bondarenko & Yu.Iu. Bondarenko, "Doslidzhennia vplyvu solianykh rozchyniv na metalevi poverkhni optychnykh elementiv (Investigation of the influence of saline solutions on the metallic surfaces of optical elements)," Na IV mizhnar. nauk.-prakt. konf. "Kompleksne zabezpechennia yakosti tekhnolohichnykh protsesiv ta system (KZIaTPS – 2016)", (Chernihiv, 26 – 29 kvitnia 2016 r.), Chernihiv: ChNTU.
R. Pfeifer, O. Szabo, & D. K. Sharma, “Electrochemical Behavior of Saturated Potassium Nitrate Salts with Boron-Doped Diamond Electrode”, ACS Applied Engineering Materials, vol. 3, no. 7, pp. 2064-2071, 2025. DOI:10.1021/acsaenm.5c00239.
J. Park, H. Kang, M. Agostini, & et al., “Introduction of a nitrate anion with solubility mediator in a carbonate-based electrolyte for a stable potassium metal anode”, Energy Storage Materials, vol. 69, 2024. http://dx.doi.org/10.1016/j.ensm.2024.103443.
P. Moraille, Z. Abdali, Mohini Ramkaran, & et al., “Experimental methods in chemical engineering: Atomic force microscopy − AFM”, The Canadian Journal of Chemical Engineering vol. 100, no. 10, pp. 2778-2806, 2022. http://dx.doi.org/10.1002/cjce.24407
C. Rodenbücher, K. Wippermann, & C. Korte, “Atomic Force Spectroscopy on Ionic Liquids”, Applied Sciences, vol. 9, no. 11, 2207, 2019. DOI: 10.3390/app9112207.
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2025 Топтун А.В., Саєнко С.М., Ощепков Н.О., Мироненко Д.С., Бондаренко М.О.

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Авторське право на публікацію залишається за авторами.
Автори можуть використовувати власні матеріали в інших публікаціях за умови посилання на збірник наукових праць "Вісник Київського політехнічного інституту. Серія ПРИЛАДОБУДУВАННЯ" як на перше місце видання та на Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» як на видавця.
Автори публікують свої статті в збірнику на умовах ліцензії Creative Commons:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії CC BY 4.0, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на динаміці цитування опублікованої роботи.
Видавець (КПІ ім. Ігоря Сікорського) має право за будь-якого використання цього видання зазначати своє ім'я або вимагати такого зазначення.
Редакційна колегія залишає за собою право розміщувати опубліковані в збірнику статті в різних інформаційних базах для надання відкритого доступу до матеріалів з метою популяризації наукових досліджень та підвищення цитованості авторів.