ЗАСАДИ МОДЕЛЮВАННЯ ПРОСТОРОВОЇ ПОХИБКИ ДЛЯ ВЕРСТАТІВ З CNC. Частина 1
DOI:
https://doi.org/10.20535/1970.49(1).2015.47039Ключові слова:
точка, крапка, риска, поле похибок, ротор, дивергенція, градієнтАнотація
У попередній низці статей [1, 2] вже розглядалися точка, крапка та риска як технологічні елементи впливу на загальну точність реалізації виробу. Було показано, яким чином технологічний фантом (ТФ) точки перетворюється на реальну крапку, як елемент відліку. Риска, як технологічний елемент, є низкою крапок, з’єднаних за визначеним законом, а тому її можна розглядати як крапку з певним подовженням. Наразі, стаття присвячена польовим структурам похибок у класичній системі координат. При цьому розглядаються дві системи координат. Одна система координат є уявною, тобто ТФ якої не має ніяких похибок. Друга система координат є реальною, яка є пристайною з уявною. Такі об’єкти як точка, крапка, риска, потрапляючи у реальну координатну систему з уявної, отримують певні спотворення. Але при цьому самі вносять певні спотворення у загальну систему відліку. Цим технологічним елементам притаманні такі властивості польових структур, як ротор, дивергенція, градієнт та інше.
Посилання
Skytsiouk V.I., Weintraub M.A. The scope of application of the line as object of instrument adjustment (Part 1). Bulletin of NTUU “KPI”. Series Instrument making, 2008, is. 35, pp. 166 – 172. (in Ukrainian)
Skytsiouk V.I., Weintraub M.A. The scope of application of the line as object of instrument adjustment (Part 2). Bulletin of NTUU “KPI”. Series Instrument making, 2009, is. 37, pp. 152 – 161. (in Ukrainian)
Skytsiouk V.I. The concept of technological dots in high-precision measurement systems. Bulletin of NTUU “KPI”. Series Instrument making, 2007, is. 33, pp. 164 – 170. (in Ukrainian)
Tochnost' proizvodstva v mashinostroenii i priborostroenii [The accuracy of production in mechanical engineering and instrument]; pod red. Gavrilova V. M. Moscow, Mashinostroenie Publ., 1973. 567 h. (In Russian)
Tymchyk G.S., Skytsiouk V.I., Weintraub M.A., Klotchko T.R. Fizychni zasady tekhnolohiï TONTOR: monohrafii͡a [Physical principles of technology TONTOR: monograph]. Кyiv, NTUU “KPI”, 2010. 352 h. (In Ukrainian)
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право на публікацію залишається за авторами.
Автори можуть використовувати власні матеріали в інших публікаціях за умови посилання на збірник наукових праць "Вісник Київського політехнічного інституту. Серія ПРИЛАДОБУДУВАННЯ" як на перше місце видання та на Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» як на видавця.
Автори публікують свої статті в збірнику на умовах ліцензії Creative Commons:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії CC BY 4.0, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на динаміці цитування опублікованої роботи.
Видавець (КПІ ім. Ігоря Сікорського) має право за будь-якого використання цього видання зазначати своє ім'я або вимагати такого зазначення.
Редакційна колегія залишає за собою право розміщувати опубліковані в збірнику статті в різних інформаційних базах для надання відкритого доступу до матеріалів з метою популяризації наукових досліджень та підвищення цитованості авторів.