ПЕРСПЕКТИВИ ВИКОРИСТАННЯ ПОВЕРХНЕВОЇ ЕЛЕКТРОННО-ПРОМЕНЕВОЇ ОБРОБКИ ОПТИЧНОГО І ТЕХНІЧНОГО СКЛА
DOI:
https://doi.org/10.20535/1970.47(1).2014.35710Ключові слова:
приладобудування, електронний потік, електронно-променева обробка, електронно-променева мікрообробка, поверхневий шар скла, оптичне скло, технічне скло, мікрооптика, інтегральна оптика, (MOEMS)Анотація
На основі отриманих експериментальних даних та існуючих досягнень окреслені перспективи використання технології поверхневої обробки оптичного і технічного скла стрічковим електронним потоком.
Поверхнева електронно-променева обробка забезпечує спрямовану зміну фізичних і хімічних властивостей поверхневих шарів скла силікатної групи (К8, БК10, ТК21,фотопластин), що може вигідно використовуватися в приладобудуванні при створенніелементної бази для мікрооптоелектромеханічних приладів і систем (MOEMS).Посилання
MOEMS: micro-opto-electro-mechanical system / Manouchehr E. Motamedi, editor. p. 615.
MEMS Micro-Electro-Mechanical System, ST Microelectronics. www.st.com.
MEMS in Optical Networks. www.allaboutmems.com.
Konopal'ceva L. I. Opticheskaja Tehnika, 1994, no 3, pp. 8-9.
Svechnikov G. S. Integral'naja Optika. Kyiv, Naukova Dumka, 1988.
Paton B. E. Avtomaticheskaja Svarka, 2001, no 2, pp. 3-9.
Poltavcev Ju. G. Tehnologija obrabotki poverhnosti v mikrojelektronike. Kyiv, Tjehnika, 1990.
Kotel'nikov D. I., Kanashevich G. V., Dubrovskaja G. N., Zhuchenko M. I., and Konopal'ceva L. I. Sposob izgotovlenija kanal'nyh opticheskih volnovodov. Patent A.s. №1798995 SSSR, MKI S03V 37/00. 1991.
Lisochenko V. N. Tehnologija jelektronno-luchevoj polirovki plat mikroshem i vhodnyh okon vidikonov. Diss. 1997.
Dudko G. V., and Lisochenko V. N. Proc. of Materialy kratkosrochnogo seminara, Leningrad. 1985, pp. 13-16.
Kravchenko A. A. Jelektronno-luchevaja obrabotka plat fotojemitirujushhih struktur. Diss. 1989. Abstract.
Lohov Ju. P., Uglov A. A., and Cherednichenko D. I. Fizika i himija obrabotki materialov. 1997, pp. 56-62.
Kravchenko A. A., Lohov Ju. N., and Cherednichenko D. I. Fizika i himija stekla (1990): 923-927.
Vashhenko V. A. Nauchnye osnovy upravlenija kachestvom jelektronno-luchevoj obrabotki izdelij iz special'nyh opticheskih materialov. Diss. 1996. Abstract.
Kanashevich G. V. Cooling of plates from optical glass after electronic micro-treatment / Kanashevich G. V. // Jelektronnaja obrabotka materialov (Kishinev), 2005, no 4 (234), pp. 79 – 83.
Kanashevich G. V. Micro-treatment of surfaces of plates made of optical glass with a low- power electronic stream of a band form // The 7th World Congress on Recovery, Recycling and Reintegration & China International 3R Exhibition, Beijing. China, 25-29 Sept. 2005. – P. 7.
Kanashevich G. V. Ezhemesjachnyj mezhdisciplinarnyj teoreticheskij i prikladnoj nauchno-tehnicheskij zhurnal «Nano- i mikrosistemnaja tehnika», 2008, pp. 28-30.
Kanashevych G. V. Visnyk NTUU «KPI». Serija «Pryladobuduvannja», 2013, pp. 123-130.
##submission.downloads##
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право на публікацію залишається за авторами.
Автори можуть використовувати власні матеріали в інших публікаціях за умови посилання на збірник наукових праць "Вісник Київського політехнічного інституту. Серія ПРИЛАДОБУДУВАННЯ" як на перше місце видання та на Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського» як на видавця.
Автори публікують свої статті в збірнику на умовах ліцензії Creative Commons:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії CC BY 4.0, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на динаміці цитування опублікованої роботи.
Видавець (КПІ ім. Ігоря Сікорського) має право за будь-якого використання цього видання зазначати своє ім'я або вимагати такого зазначення.
Редакційна колегія залишає за собою право розміщувати опубліковані в збірнику статті в різних інформаційних базах для надання відкритого доступу до матеріалів з метою популяризації наукових досліджень та підвищення цитованості авторів.
